连续非均相沉淀法生长ZnO薄膜及其光致发光性能研究

• 作者: 于伟东 李效民 高相东
• 来源期刊: 纳米科技
• 关键词: 氧化锌 薄膜 连续非均相沉淀法 紫外发光
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 纳米器件与技术
• 页码范围: 31-35
• 页数: 5页
• 语种: 中文

摘要

将连续离子层吸附与反应法(SILAR)和液相非均相沉淀技术相结合,提出ZnO薄膜的连续非均相沉淀液相制备技术.以[Zn(NH3)4]2+络离子为前驱体,以玻璃和Si(100)为衬底,从90℃水溶液中沉积得到ZnO薄膜.XRD分析表明,所得薄膜为六方纤锌矿型多晶结构,沿(002)晶面择优取向.AFM测试表明,薄膜表面致密、均匀,ZnO粒子尺度约为200 nm～300 nm.在340 nm室温紫外光激发下,薄膜产生强的近紫外光发射(～390 nm)和若干较弱的深能级发射(～450 nm-500 nm).初步探讨了连续非均相沉淀法生长ZnO薄膜的机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高相东	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	14	108	7.0	10.0
2	李效民	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	24	197	10.0	13.0
3	于伟东	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	18	118	7.0	10.0