真空镀膜技术的现状及进展

• 作者: 曹晓明 邸英浩
• 来源期刊: 天津冶金
• 学科: 工学
• 关键词: 真空蒸发镀 离子镀 磁控溅射 发展趋势
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 金属材料的开发与应用
• 页码范围: 45-48
• 页数: 4页
• 分类号: TF1
• 字数: 6055字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-110X.2004.05.017

摘要

介绍了在真空条件下真空蒸发镀、溅射镀膜和离子镀等镀膜技术的概念和这几种真空镀膜技术的特点、应用及发展的前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邸英浩	天津河北工业大学材料学院	1	122	1.0	1.0
2	曹晓明	天津河北工业大学材料学院	1	122	1.0	1.0