高磁损耗型纳米多层膜研究

• 作者: 何华辉 冯则坤 江建军 邓联文
• 来源期刊: 华中科技大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 吸波材料 纳米多层膜 高频特性 复磁导率
• 年，卷（期）: 2004,（11）
• 页码范围: 51-53
• 页数: 3页
• 分类号: TM277
• 字数: 2137字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1671-4512.2004.11.018

摘要

研究一种能用于微波吸收的高磁损耗型纳米多层膜材料,该多层膜材料采用软磁合金层CoFeZrNd和绝缘介质层SiO2交替的周期结构,用磁控溅射工艺制备的这类薄膜在微波段可具有高磁导率和大磁损耗,2GHz时μ'=121,μ"=147.重点探讨了磁性合金层厚度、介质层厚度、周期数等对这类多层膜材料微波复磁导率的影响规律和机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	江建军	华中科技大学电子科学与技术系	105	993	18.0	25.0
2	邓联文	华中科技大学电子科学与技术系	31	401	13.0	19.0
3	何华辉	华中科技大学电子科学与技术系	110	1350	20.0	29.0
4	冯则坤	华中科技大学电子科学与技术系	109	961	18.0	25.0