CrAlN/TiAlN纳米多层膜的微结构及其性能研究

• 作者: 罗兰娥 苏波 钟春良
• 来源期刊: 湖南工业大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: CrAlN/TiAlN纳米多层膜 磁控溅射 微结构 硬度 高温稳定性
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 13-17
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 3055字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9833.2013.05.004

摘要

采用磁控反应溅射法制备了不同调制周期的CrAlN/TiAlN纳米多层膜,并通过X射线衍射仪、显微硬度计、扫描电镜分析了调制周期对多层膜的微结构、力学性能和高温抗氧化性能的影响.结果表明:CrAlN/TiAlN纳米多层膜共格外延生长,呈现CrAlN(或TiAlN)面心立方结构,且呈(111)择优取向;CrAlN/TiAlN纳米多层膜在某些调制周期出现硬度异常升高的超硬度效应;CrAlN/TiAlN纳米多层膜比CrAlN,TiAlN单层膜具有更好的高温稳定性,高温时仍具有较高的硬度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗兰娥	湖南工业大学理学院	2	9	2.0	2.0
2	钟春良	湖南工业大学理学院	8	11	2.0	3.0
3	苏波	湖南工业大学理学院	1	6	1.0	1.0