一种新型阳极氧化多孔硅技术

• 作者: 蔡加法 蔡贝妮 陈松岩 黄燕华
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多孔硅(PS) 湿法氧化 光致发光(PL)
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 561-566
• 页数: 6页
• 分类号: O482.31
• 字数: 4268字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2004.05.019

摘要

在适当条件下氧化多孔硅是提高多孔硅发光强度的良好途径,提出了一种新型阳极氧化方法,并探讨了该方法所涉及的阳极氧化条件.采用含CH3CSNH2的HF酸水溶液作为氧化剂对初始多孔硅进行了湿法阳极氧化,发现氧化使多孔硅光致发光性质得到极大改善,进而研究了氧化电流、氧化温度、氧化时间等一系列因素对氧化多孔硅光致发光强度的影响,并给出了合理解释.实验发现,在1 mA,10min,60℃的氧化条件下,采用阳极氧化技术使多孔硅发光强度增强了18倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蔡加法	厦门大学物理与机电工程学院	27	107	6.0	8.0
2	陈松岩	厦门大学物理与机电工程学院	68	248	8.0	12.0
3	黄燕华	厦门大学物理与机电工程学院	5	16	3.0	4.0
4	蔡贝妮	厦门大学物理与机电工程学院	4	13	2.0	3.0