前进中的曝光技术

• 作者: 陈江红 陈阳
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 曝光技术 电子束 超大规模集成电路
• 年，卷（期）: 2004,（12）
• 所属期刊栏目: 制造工艺技术
• 页码范围: 66-68
• 页数: 3页
• 分类号: TN205
• 字数: 2208字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.12.017

摘要

简述了曝光的历史和发展趋势及当前的技术状态和技术难点,指出了将来的发展思路.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈阳	中国电子科技集团公司第四十八研究所	12	57	3.0	7.0
2	陈江红	中国电子科技集团公司第四十八研究所	3	5	1.0	2.0