C-H-O和C-H-N体系生长金刚石膜的气相化学模拟

• 作者: 廖源 戚学贵 王冠中 陈则韶
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 金刚石膜 气相化学 相图
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 404-410
• 页数: 7页
• 分类号: TQ163
• 字数: 5534字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2004.02.024

摘要

数值模拟了C-H-O和C-H-N体系的气相化学,构建了含氧和含氮气源化学气相沉积金刚石膜的三元相图,探讨了加氧和加氮影响金刚石膜生长的途径.结果表明,甲基是金刚石生长主要的前驱基团,乙炔导致非金刚石碳沉积,原子氢刻蚀非金刚石碳.通过气相反应改变这些基团的浓度是加氧的一个重要作用途径,而加氮在改变这些基团浓度的同时,CN等含氮基团还强烈地参与了金刚石膜成核和生长的表面过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖源	中国科学技术大学物理系	12	95	5.0	9.0
2	王冠中	中国科学技术大学物理系	12	58	5.0	7.0
3	陈则韶	中国科学技术大学工程科学学院	108	1106	18.0	26.0
4	戚学贵	中国科学技术大学工程科学学院	13	152	6.0	12.0