单管卧式热壁型PECVD设备

• 作者: 郑建宇 钟华
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: PECVD 射频 均匀性 生产率 氮化硅
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 成膜技术
• 页码范围: 23-25,50
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 2296字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2004.04.007

摘要

介绍了一种用于氮化硅薄膜生长的等离子增强化学气相淀积设备,着重阐述了该设备的结构组成、工艺原理及控制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑建宇		4	4	2.0	2.0
2	钟华		3	8	2.0	2.0