窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅

• 作者: 付绍军 吴文娟 张众 徐向东 王占山 王洪昌 王风丽 秦树基 陈玲燕
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 多层膜 光栅 带宽 刻蚀 光谱分辨率 刻蚀比
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 先进加工制造技术
• 页码范围: 226-230
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 2605字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-924X.2004.02.020

摘要

结合X射线荧光分析和同步辐射单色器对窄光谱带宽多层膜的需求,开展了窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的理论和实验研究.用平均密度法从理论上阐明将多层膜刻蚀成不同刻蚀比的多层膜光栅后,光谱分辨率将得到提高.用磁控溅射方法制备了W/C多层膜,并用常规的光刻工艺对其进行刻蚀,得到了刻蚀后的多层膜光栅.掠入射X射线衍射测量表明,刻蚀后多层膜的衍射峰位置向小角方向移动,多层膜光栅没有改变剩余多层膜的结构,而且带宽减小,光谱分辨率得到提高,说明实验采用的工艺方法和工艺路线可以满足制作窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的要求.