分子沉积(MD)膜表面形貌的测量及影响因素

• 作者: 张嗣伟 聂时春 高芒来
• 来源期刊: 机械科学与技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 分子沉积(MD)膜 磺化酞菁铜(CuTspc) 表面形貌 分形 载荷 扫描速率
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 页码范围: 206-208
• 页数: 3页
• 分类号: O485
• 字数: 3013字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1003-8728.2004.02.024

摘要

利用原子力显微镜(AFM)考察了单层磺化酞菁铜(CuTsPc)MD膜硅表面随载荷和扫描速率变化的盒维数,对单层CuTsPc MD膜硅表面进行了表面形貌的测量,并分析了形貌信息中的摩擦力信息对表面形貌信号的影响.结果表明,单层CuTsPc MD膜硅表面具有较好的分形几何特性,分形是表面的固有属性;不同类型的硅表面具有的盒维数基本不变.表面形貌的信息里包含的摩擦力信息是表面形貌测量中的重要影响因素,载荷和扫描速率通过影响摩擦力对表面形貌的测量产生影响,但载荷影响程度不大,且没有较明显的规律;扫描速率增加能引起表面粗糙度和表面高度的降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	聂时春		5	31	3.0	5.0
2	张嗣伟		47	541	14.0	21.0
3	高芒来		18	208	9.0	14.0