负偏压对磁控溅射Ti膜沉积速率和表面形貌的影响

• 作者: 何智兵 吴卫东 唐永建 徐金城 段玲珑 许华
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: Ti薄膜 磁控溅射 负偏压 沉积速率 表面形貌
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 505-508
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2580字
• 语种: 中文

摘要

采用直流磁控溅射加负偏压的方法制备了Ti膜,研究了不同偏压条件对Ti膜沉积速率、密度、生长方式及表面形貌的影响.随着偏压逐渐增大,Ti膜沉积速率分三个阶段变化:0～-40 V之间沉积速率基本不变;-40～-80 V之间沉积速率迅速降低;超过-80 V后沉积速率随偏压的下降速度又放缓.Ti膜密度随偏压增加而增大,负偏压为-119.1 V时开始饱和并趋于块体Ti材密度.加负偏压能够抑制Ti膜的柱状生长方式;偏压可以改善Ti膜的表面形貌,对于40 W和100 W的溅射功率,负偏压分别在-100 V和-80 V左右时制备出表面光洁性能较佳的Ti膜.