磁控溅射工艺对纳米Ti膜形貌的影响

• 作者: 刘东亮 吴卫 金永中 陈建
• 来源期刊: 四川理工学院学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 纳米Ti膜 溅射工艺 形貌
• 年，卷（期）: 2006,（4）
• 页码范围: 49-51
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 1482字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-1549.2006.04.014

摘要

实验研究了磁控溅射工艺的溅射功率及溅射时间对纳米金属Ti膜的厚度影响,并对薄膜形貌作了简单探讨.结果表明,在其它工艺参数恒定时,金属Ti膜厚度与溅射时间呈正比例关系;金属Ti膜厚度随溅射功率的提高而增大;长时间溅射后的纳米金属Ti膜表面平整,主要源于薄膜进入连续生长阶段,出现晶粒合并的现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈建	四川理工学院材料与化学工程系	131	670	11.0	22.0
2	金永中	四川理工学院材料与化学工程系	89	417	11.0	16.0
3	吴卫	西华大学材料学院	42	300	11.0	15.0
4	刘东亮	四川理工学院材料与化学工程系	45	275	9.0	14.0