辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究

• 作者: 刘晓晗 吴则嘉 张林春 张毅 杨晟远 陈英颖
• 来源期刊: 冶金分析
• 学科: 工学
• 关键词: 辉光放电 光谱法 掺杂 纳米硅薄膜
• 年，卷（期）: 2004,（z1）
• 所属期刊栏目: 辉光放电发射光谱分析
• 页码范围: 253-258
• 页数: 6页
• 分类号: TF0
• 字数: 4393字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7571.2004.z1.074

摘要

介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜:通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率,建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法.方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析,并将分析深度剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照.实验结果表明,本分析方法快速、准确,具有实际应用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张毅	宝山钢铁股份有限公司技术中心	40	336	12.0	16.0
2	陈英颖	宝山钢铁股份有限公司技术中心	9	63	4.0	7.0
3	吴则嘉		4	24	2.0	4.0
4	刘晓晗		4	24	2.0	4.0
5	杨晟远		4	24	2.0	4.0
6	张林春		4	24	2.0	4.0