Fe/Si多层膜的层间耦合与界面扩散

• 作者: 倪经 朱世富 梅良模 蔡建旺 赵见高 颜世申
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Fe/Si多层膜 层间耦合 界面扩散
• 年，卷（期）: 2004,（11）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质：电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 3920-3923
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 3343字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.11.055

摘要

对以本征Si及重掺杂p型和n型Si作为中间层的Fe/Si多层膜的层间耦合进行研究,并通过退火,增大Fe,Si之间的扩散,分析界面扩散对层间耦合的影响.实验结果表明,层状结构良好的制备态的多层膜,Fe,Si之间也存在一定程度的扩散,它是影响层间耦合的主要因素,远远超过了半导体意义上的重掺杂,使不同种类的Si作为中间层的层间耦合基本一致.进一步还发现,在一定范围内增大Fe,Si之间的扩散,即使多层膜的层状结构已经有了相当的退化,Fe/Si多层膜的反铁磁耦合强度基本保持不变.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱世富	四川大学材料科学与工程系	151	840	14.0	20.0
2	蔡建旺	中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室	14	170	7.0	13.0
3	梅良模	山东大学物理与微电子学院	62	303	10.0	13.0
4	颜世申	山东大学物理与微电子学院	8	34	4.0	5.0
5	赵见高	中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室	10	71	5.0	8.0
6	倪经	中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室	3	39	3.0	3.0