阴极电弧离子沉积TiN／Ti镀层腐蚀特性

• 作者: 刘天伟 刘清和 王庆富 鲜晓斌
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 工学
• 关键词: 耐磨镀层 TIN 腐蚀特性 离子沉积 阴极电弧 防腐蚀保护 扩散阻挡层 半导体工业
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 页码范围: 411-412
• 页数: 2页
• 分类号: TQ153.2

摘要

TiN镀层作为耐磨镀层，半导体工业中的扩散阻挡层，电子装置镀层，射频超导阱结构中的反次级电子倍增效应镀层，装饰和耐腐蚀保护镀层，已经在各个领域中得到广泛的应用。TiN镀层由于有很稳定的化学性能，以及和各种钢基材有较好的结合强度，特别适合用于材料的防腐蚀保护镀层。