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文献信息
篇名 无掩模光刻技术的最新进展
来源期刊 电子工业专用设备 学科
关键词
年,卷(期) 2005,(2) 所属期刊栏目 趋势与展望
研究方向 页码范围 1-2
页数 2页 分类号
字数 2588字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2005.02.001
五维指标
传播情况
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引文网络
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期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
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3731
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31
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