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130nm串扰延迟的处理技术
130nm串扰延迟的处理技术
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摘要：
推荐文章
90 nm CMOS工艺下串扰延迟及其测量电路的研究
超深亚微米(UDSM)
串扰延迟
CMOS工艺
保护环对130nm体硅PMOS抗单粒子瞬态特性的影响
保护环
深亚微米
器件模拟
单粒子辐照
寄生双极效应
基于XDSL 串扰噪声的应对技术分析研究
噪声容限
串扰
自适应速率调整
虚拟噪声
人工噪声
高速数字系统的串扰问题分析
高速数字电路
信号完整性
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期刊影响力
电子设计技术
主办单位：
中国电子报社
出版周期：
月刊
ISSN：
1023-7364
CN：
11-3617/TN
开本：
16开
出版地：
北京市
邮发代号：
创刊时间：
1994
语种：
chi
出版文献量（篇）
5532
总下载数（次）
6
总被引数（次）
1789
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