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摘要:
采用直流反应磁控溅射的方法, 溅射高纯钛靶在ITO石英衬底上制备了TiO2薄膜.用Raman光谱、AFM和紫外-可见光分光光度计分别测试了TiO2薄膜的结构、表面形貌和紫外-可见光吸收谱,研究了工艺因素中溅射气压、氧氩比和退火温度对薄膜结构的影响.采用C(胶)/TiO2/ITO三层结构研究了锐钛矿TiO2薄膜的紫外光响应.实验结果表明:较低的溅射气压、合适的氧氩比和较高的退火温度有利于锐钛矿TiO2薄膜的结晶.在2V的偏压下,锐钛矿TiO2薄膜的紫外光响应上升弛豫时间约为3s,稳定光电流可达到2.1mA,对紫外光的灵敏性和稳定的光响应表明TiO2薄膜有可能成为一种新的紫外光探测器材料.
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文献信息
篇名 锐钛矿TiO2薄膜的制备及其紫外光电导性能研究
来源期刊 半导体光电 学科 工学
关键词 直流反应磁控溅射 锐钛矿TiO2薄膜 光响应
年,卷(期) 2005,(1) 所属期刊栏目 材料、结构及工艺
研究方向 页码范围 40-43
页数 4页 分类号 TN304.055
字数 2691字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-5868.2005.01.011
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 姚宁 郑州大学材料物理教育部重点实验室 122 692 12.0 18.0
2 张兵临 郑州大学材料物理教育部重点实验室 95 608 12.0 18.0
3 鲁占灵 郑州大学材料物理教育部重点实验室 25 166 8.0 11.0
4 杨仕娥 郑州大学材料物理教育部重点实验室 68 513 12.0 18.0
5 张利伟 郑州大学材料物理教育部重点实验室 10 109 7.0 10.0
6 樊志琴 郑州大学材料物理教育部重点实验室 9 77 6.0 8.0
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直流反应磁控溅射
锐钛矿TiO2薄膜
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半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
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