退火工艺对Pb(Zr0.55Ti0.45)O3铁电薄膜结晶取向的影响

• 作者: 张树人 杨成韬 田召明 陈富贵
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 工学
• 关键词: 铁电薄膜 射频磁控溅射 疲劳特性
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 记录与介质
• 页码范围: 47-50
• 页数: 4页
• 分类号: O448|TB43
• 字数: 2439字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5624.2005.03.010

摘要

用射频磁控溅射法在Pt(111)/Ti/SiO2/Si上成功的制备了Pb(Zr0.55Ti0.45)O3(PZT)铁电薄膜,通过传统退火(CFA)和快速退火(RTA)不同的退火方式,获得了(100)和(111)择优取向的铁电薄膜.对薄膜电学特性的测试表明,薄膜的织构对其电学性能有很大影响,(111)取向的薄膜与(100)取向的薄膜相比,剩余极化Pr和矫顽场Ec较大,但抗疲劳特性却较差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张树人	电子科技大学微电子与固体电子学院	187	1176	16.0	24.0
2	杨成韬	电子科技大学微电子与固体电子学院	67	255	8.0	12.0
3	陈富贵	电子科技大学微电子与固体电子学院	5	15	3.0	3.0
4	田召明	电子科技大学微电子与固体电子学院	3	3	1.0	1.0