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摘要:
在超深亚微米(VDSM)工艺下, 由光刻工艺带来的光学邻近效应不可忽略, 时钟偏差受到光学邻近效应等工艺参数变化的影响非常严重.提出了一种带缓冲器插入的安全时钟布线算法, 来防止因光学邻近造成线宽变化对时钟系统的影响.该算法提出了"分支敏感因子"(BSF)的概念, 通过构造特殊的树型拓扑结构和布线过程中的缓冲器插入等操作, 达到总体布线长度和偏差灵敏度的平衡.实验结果表明, 算法可以得到一个抗光学邻近效应工艺参数变化的可靠时钟布线树, 时钟偏差被有效地控制在合理范围之内.
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文献信息
篇名 考虑工艺参数变化的安全时钟布线算法
来源期刊 中国科学E辑:信息科学 学科 工学
关键词 时钟布线 工艺参数变化 时钟偏差 分支敏感因子 缓冲器插入
年,卷(期) 2005,(8) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 887-896
页数 10页 分类号 TP3
字数 5502字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1006-9275.2005.08.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 洪先龙 清华大学计算机科学与技术系软件研究所 114 410 9.0 11.0
2 蔡懿慈 中国科学技术大学计算机科学与技术系 68 273 8.0 11.0
4 刘毅 清华大学计算机科学与技术系软件研究所 77 890 15.0 28.0
5 熊焰 中国科学技术大学计算机科学与技术系 82 648 12.0 21.0
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研究主题发展历程
节点文献
时钟布线
工艺参数变化
时钟偏差
分支敏感因子
缓冲器插入
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国科学(技术科学)
月刊
1674-7259
11-5844/TH
北京东黄城根北街16号
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