表面预处理对氧化锌薄膜质量的影响

• 作者: 刘大力 杜国同 石增良 董鑫 闫小龙 高忠民
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 金属有机化学气相沉积 表面预处理
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 777-780
• 页数: 4页
• 分类号: O472.3|O482.31
• 字数: 1873字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2005.06.017

摘要

用MOCVD方法在c面蓝宝石衬底上生长ZnO薄膜.生长前衬底表面进行预处理,观察不同表面预处理对ZnO薄膜质量的影响.测量氧化锌的XRD谱,观察表面预处理后对氧化锌薄膜结晶质量的影响.室温下用325 nm的He-Cd激光器作为激发源测量ZnO薄膜的紫外发光谱,观察表面处理后对ZnO薄膜发光特性的影响.用HL5500 Hall System分别对ZnO薄膜的电学特性进行了测试.得到了ZnO薄膜的电阻率和霍尔迁移率,并得到氧气气氛处理后电阻率变小,霍尔迁移率变大;氮气气氛射频处理后电阻率变大,霍尔迁移率变小的结果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜国同		41	204	8.0	13.0
2	石增良		2	8	2.0	2.0
3	刘大力		2	8	2.0	2.0
4	闫小龙		2	8	2.0	2.0
5	高忠民		2	8	2.0	2.0
6	董鑫		1	3	1.0	1.0