机械法研磨CVD金刚石厚膜

• 作者: 汪建华 王俊峰
• 来源期刊: 武汉化工学院学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 化学气相沉积 机械研磨
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 页码范围: 39-41
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2169字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2869.2005.05.014

摘要

柱状生长的CVD金刚石膜生长面非常粗糙,并且粗糙度随着膜厚的增加而增加,限制了它的应用,必须对其抛光.本文采用了机械研磨法来研磨CVD金刚石厚膜,研磨速率达6.1 μm /h,厚度去除了36.9 μm,粗糙度Ra从5.9 μm降至0.19 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王俊峰	武汉化工学院材料科学与工程学院	4	23	3.0	4.0
2	汪建华	武汉化工学院材料科学与工程学院	57	613	12.0	20.0