PYREX玻璃湿法凹槽腐蚀研究

• 作者: 冯勇建 张丹 林雁飞 郑志霞
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: PYREX玻璃 湿法腐蚀 曝光
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: MEMS器件与技术
• 页码范围: 33-36
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 2374字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2005.01.008

摘要

在玻璃上刻蚀凹槽作为腔体,是半导体制造工艺中一个新方法.本文讨论了玻璃湿法腐蚀的工艺方法,通过清洗、涂胶、光刻、腐蚀等工艺的反复实验,分析了涂胶厚度与甩胶速率的关系,腐蚀深度随腐蚀时间的变化情况,并总结出玻璃刻蚀过程中的重要参数和注意事项.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯勇建	厦门大学萨本栋微机电中心	103	953	15.0	26.0
2	张丹	厦门大学机电工程系	21	101	6.0	9.0
3	郑志霞	厦门大学机电工程系	34	267	8.0	15.0
7	林雁飞	厦门大学机电工程系	6	52	4.0	6.0