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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 Alcatel Vacuum Technology A Recognized Leader in Deep Plasma Etching
来源期刊 电子工业专用设备 学科
关键词
年,卷(期) 2005,(1) 所属期刊栏目 业界采访
研究方向 页码范围 76-78
页数 3页 分类号
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2005.01.019
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
总被引数(次)
10002
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