球面像差的容限--一种工艺窗口的实验性研究

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 工艺窗口 掩模误差因子 像质测量
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 专题报道(IC前道制程)
• 页码范围: 30-34
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文

摘要

球面像差能破坏光刻的成像质量.它不仅影响工艺窗口,即,曝光容裕度和焦深(DOF),而且也降低了掩模误差因子(MEF),这能导致附加的掩模费用.尽管最近已经报道了一些系统的测量方法,但这种像差的程度到实际实验工艺窗口的降级之间的关系尚无清楚的文献证明.在此,将首先提出一种简单的用规则的铬栅格图形测量球面像差的方法.我们也将根据两台深紫外扫描光刻机提出球面像差和工艺窗口的数据.业已发现有些扫描光刻机的峰值波前误差可达0.1个波型.均方根(rms)波前误差数据与测量到的工艺窗口降级和掩模误差因子对于关键接触孔和多层栅有很好的联系.