亚100纳米级标准单元的可制造性设计

• 作者: 严晓浪 史峥 张培勇 陈晔 马玥 高根生
• 来源期刊: 电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 标准单元 可制造性设计 分辨率增强技术
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 304-307
• 页数: 4页
• 分类号: TN402
• 字数: 3978字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0372-2112.2005.02.027

摘要

本文介绍了亚100纳米工艺可制造性验证的一组工艺仿真和错误定位技术,制定了标准单元可制造性设计(DFM,Design For Manufacturability)的流程,重点讨论了在亚100纳米工艺条件下标准单元设计中遇到的一些典型可制造性问题,提出了相应的新设计规则和解决方案.依靠以上DFM技术方法,完成了实际90nm工艺标准单元可制造性设计工作.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈晔	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	20	131	6.0	11.0
2	史峥	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	51	176	7.0	11.0
3	严晓浪	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	246	1634	19.0	29.0
4	高根生	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	6	41	3.0	6.0
5	张培勇	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	17	46	3.0	6.0
6	马玥	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	3	28	2.0	3.0