聚灿烂甲酚蓝膜修饰电极测定抗坏血酸的研究

• 作者: 周跃明 应敏 梁喜珍 范杰平 马建国
• 来源期刊: 分析试验室
• 学科: 化学
• 关键词: 灿烂甲酚蓝 二步法电化学聚合 电催化 抗坏血酸
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 研究报告与简报
• 页码范围: 51-54
• 页数: 4页
• 分类号: O657.1
• 字数: 2696字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0720.2005.07.015

摘要

电化学聚合制备了聚灿烂甲酚蓝薄膜修饰玻碳电极,研究了修饰电极对抗坏血酸的电催化氧化作用.结果表明二步法电聚合制备的修饰电极性能优于一步法电聚合,在该电极上抗坏血酸的过电位降低320 mV,催化氧化峰电流与抗坏血酸的浓度在2×10-5～5×10-3 mol/L范围内呈良好的线性关系,相关系数0.9982.方法可用于药品及食品中抗坏血酸的分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁喜珍	东华理工学院应用化学系	22	225	10.0	14.0
2	周跃明	东华理工学院应用化学系	24	184	9.0	12.0
3	马建国	东华理工学院应用化学系	39	233	9.0	13.0
4	应敏	东华理工学院应用化学系	7	78	6.0	7.0
5	范杰平	东华理工学院应用化学系	3	27	3.0	3.0