曝光机双玻璃晒架及其真空系统的设计

• 作者: 吴琼
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 曝光机 图形转移 双玻璃晒架 真空度
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: IC制造与设备
• 页码范围: 52-55
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2909字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2006.01.010

摘要

曝光机是图形转移中的重要设备.传统的迈拉晒架存在着需要赶气、效率低等缺点,已不能满足现代生产的需要.现今双玻璃晒架已在国外中、高档曝光机上普遍采用,但在国内各厂商还不具备生产能力.设计了散射光曝光机的双玻璃晒架系统,研究了玻璃的固定方式、腔体真空、底片吸附等问题,在实验基础上得出了当膨胀密封圈气压为0.03 MPa,腔体真空度和底片吸附分别为40kPa和80kPa时,该晒架系统的真空效果较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴琼	西南科技大学信息工程学院	5	30	3.0	5.0