薄膜应力的研究进展

• 作者: 罗崇泰 陈焘
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 应力 光学薄膜 模型
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 68-74
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 字数: 4173字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2006.02.002

摘要

薄膜应力对薄膜性能具有重要的影响.主要介绍了薄膜应力形成机理和应力实验的研究进展,并探讨了薄膜应力研究的发展趋势.通过选择适当的工艺条件以及表面处理可以改变薄膜的应力分布,提高薄膜的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	罗崇泰	兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室	31	224	9.0	13.0
2	陈焘	兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室	23	216	8.0	14.0