用于光刻胶刻蚀过程模拟的二维动态CA模型

• 作者: 卢伟 周再发 李伟华 黄庆安
• 来源期刊: 电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 元胞自动机 工艺模拟 光刻模拟 工艺模型
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 科研通讯
• 页码范围: 906-910
• 页数: 5页
• 分类号: TN386
• 字数: 4676字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0372-2112.2006.05.027

摘要

针对光刻工艺模拟,首次建立了光刻胶刻蚀过程模拟的2-D动态元胞自动机(CA)模型,通过制定规则来确定模拟过程中不断更新的表面元胞,使得模拟只需要计算表面元胞的刻蚀过程.模型既有稳定性好的优点,又有运算速度快的优点.采用一些公认的光刻速率分布测试函数非常有效地模拟了光刻过程,模型在刻蚀速率变化非常大的区域也非常稳定.