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电子束光刻技术的原理及其在微纳加工与纳米器件制备中的应用
电子束光刻技术的原理及其在微纳加工与纳米器件制备中的应用
作者:
刘刚
张琨
林罡
王晓平
田扬超
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
电子束光刻
微纳加工
纳米器件
摘要:
电子束光刻是微电子技术领域重要的光刻技术之一,它可以制备特征尺寸10nm甚至更小的图形.随着电子束曝光机越来越多地进入科研领域,它在微纳加工、纳米结构的特性研究和纳米器件的制备等方面都呈现出重要的应用价值.本文以几种常见的电子束曝光机为例,说明电子束光刻的工作原理和关键技术,并给出一些它在纳米器件和微纳加工方面的应用实例.
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电子束快速制造技术制备SiCP/Al复合材料
电子束
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SiCp/Al复合材料
内容分析
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(/年)
文献信息
篇名
电子束光刻技术的原理及其在微纳加工与纳米器件制备中的应用
来源期刊
电子显微学报
学科
工学
关键词
电子束光刻
微纳加工
纳米器件
年,卷(期)
2006,(2)
所属期刊栏目
学术论文
研究方向
页码范围
97-103
页数
7页
分类号
TN305.7|TN405|TG115.21+5.3
字数
4469字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-6281.2006.02.003
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
刘刚
中国科学技术大学合肥同步辐射国家实验室
207
2369
24.0
40.0
2
田扬超
中国科学技术大学合肥同步辐射国家实验室
50
372
12.0
17.0
3
王晓平
中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家实验室
35
217
8.0
14.0
4
张琨
中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家实验室
27
309
11.0
16.0
5
林罡
南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室
15
107
5.0
10.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
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共引文献
(4)
参考文献
(7)
节点文献
引证文献
(48)
同被引文献
(17)
二级引证文献
(7)
1980(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2000(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2002(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
2003(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
2004(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2005(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2006(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2006(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2007(3)
引证文献(3)
二级引证文献(0)
2008(3)
引证文献(3)
二级引证文献(0)
2009(6)
引证文献(6)
二级引证文献(0)
2010(2)
引证文献(2)
二级引证文献(0)
2011(3)
引证文献(3)
二级引证文献(0)
2012(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2013(4)
引证文献(4)
二级引证文献(0)
2014(6)
引证文献(6)
二级引证文献(0)
2015(3)
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二级引证文献(0)
2016(7)
引证文献(5)
二级引证文献(2)
2017(3)
引证文献(3)
二级引证文献(0)
2018(10)
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2019(3)
引证文献(2)
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2020(1)
引证文献(1)
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研究主题发展历程
节点文献
电子束光刻
微纳加工
纳米器件
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子显微学报
主办单位:
中国物理学会
出版周期:
双月刊
ISSN:
1000-6281
CN:
11-2295/TN
开本:
大16开
出版地:
北京中关村北二条13号(北京2724信箱)
邮发代号:
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
3728
总下载数(次)
3
总被引数(次)
20226
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