电子束光刻技术的原理及其在微纳加工与纳米器件制备中的应用

• 作者: 刘刚 张琨 林罡 王晓平 田扬超
• 来源期刊: 电子显微学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电子束光刻 微纳加工 纳米器件
• 年，卷（期）: 2006,（2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 97-103
• 页数: 7页
• 分类号: TN305.7|TN405|TG115.21+5.3
• 字数: 4469字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6281.2006.02.003

摘要

电子束光刻是微电子技术领域重要的光刻技术之一,它可以制备特征尺寸10nm甚至更小的图形.随着电子束曝光机越来越多地进入科研领域,它在微纳加工、纳米结构的特性研究和纳米器件的制备等方面都呈现出重要的应用价值.本文以几种常见的电子束曝光机为例,说明电子束光刻的工作原理和关键技术,并给出一些它在纳米器件和微纳加工方面的应用实例.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘刚	中国科学技术大学合肥同步辐射国家实验室	207	2369	24.0	40.0
2	田扬超	中国科学技术大学合肥同步辐射国家实验室	50	372	12.0	17.0
3	王晓平	中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家实验室	35	217	8.0	14.0
4	张琨	中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家实验室	27	309	11.0	16.0
5	林罡	南京电子器件研究所单片集成电路与模块国家级重点实验室	15	107	5.0	10.0