EPW腐蚀液中制作近似圆形硅膜研究

• 作者: 任华 温殿忠 王天琦 赵晓锋
• 来源期刊: 传感技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: EPW腐蚀液 圆形硅膜 凸角削角 各向异性腐蚀 MEMS
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 微纳制造
• 页码范围: 1430-1433
• 页数: 4页
• 分类号: TN4
• 字数: 2772字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-1699.2006.05.031

摘要

研究了《100》单晶硅在EPW腐蚀液中制作近似圆形硅膜,在EPW腐蚀液中因《100》单晶硅腐蚀速率各向异性,在圆形掩膜下很难实现圆形单晶硅膜.基于EPW腐蚀液中《100》单晶硅存在严重凸角削角,采用带锯齿(9个、20个、36个)结构的齿轮掩膜图形腐蚀制作近似圆形硅膜,通过采用SEM观察,随腐蚀时间增加,圆形掩膜EPW腐蚀后硅膜为近似方形,而带有36个锯齿结构的齿轮掩膜腐蚀后硅膜近似圆形.结果表明,利用掩膜锯齿结构在EPW腐蚀液中存在凸角削角现象,能够实现近似圆形硅膜的制作.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	温殿忠	黑龙江大学集成电路重点实验室	51	330	10.0	15.0
2	赵晓锋	黑龙江大学电子工程黑龙江省高校重点实验室	27	123	8.0	10.0
3	王天琦	黑龙江大学电子工程黑龙江省高校重点实验室	3	23	2.0	3.0
4	任华	黑龙江大学集成电路重点实验室	1	2	1.0	1.0