HMDS预处理系统

• 作者: 庞克俭
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 六甲基二硅氮烷 涂胶 预处理 疏水
• 年，卷（期）: 2006,（10）
• 所属期刊栏目: 新设备与新机构
• 页码范围: 70-72
• 页数: 3页
• 分类号: TP3
• 字数: 1466字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2006.10.017

摘要

讲述了HMDS预处理工艺过程,HMDS预处理系统的优越性及该系统的工作原理与结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	庞克俭	中国电子科技集团公司第十三研究所	3	65	3.0	3.0