浸没式ArF光刻最新进展

• 作者: 李艳秋
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 浸没式ArF光刻 下一代光刻 PR0LITH MicroCruiser 分辨率增强
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 光刻技术
• 页码范围: 27-35
• 页数: 9页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 7669字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2006.03.010

摘要

简单概述了浸没式ArF的发展历史、特点和面临的科学技术问题,在跟踪报道国内外最新研究进展的同时,介绍前沿光刻技术的研发特点和研究手段,强调协同设计研究的重要地位,并揭示浸没式ArF光刻不是干式ArF光刻的简单移置和延续.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李艳秋	中国科学院的电工研究所	35	388	12.0	18.0