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高浓度Er/Yb共掺ZnO薄膜的结构及室温光致发光特性
高浓度Er/Yb共掺ZnO薄膜的结构及室温光致发光特性
作者:
刘志文
张庆瑜
段淑卿
苗壮
谭娜
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光通信
Er/Yb共掺
光致发光
ZnO薄膜
微观结构
摘要:
采用射频磁控溅射方法制备了Er/Yb共掺ZnO薄膜,研究了退火处理对高浓度Er/Yb共掺ZnO薄膜的结构演化和光致发光(PL)特性的影响.X射线衍射分析结果表明:Er/Yb掺杂导致ZnO薄膜的晶粒细化及择优取向性消失,ZnO晶粒随退火温度的增加而逐渐长大.900℃退火时,出现Er3+、Yb3+偏析,退火温度高于1000℃时,薄膜与基体间发生了界面反应,1200℃时,ZnO完全转变为Zn2SiO4相.光致发光测量结果表明:高于900℃退火处理后,Er/Yb共掺ZnO薄膜在1540 nm附近具有明显的光致发光,发光强度在退火温度为1050℃时达到最大值;光致发光光谱呈现典型的晶体基质中Er3+离子发光光谱所具有的明锐多峰结构特征.此外,探讨了薄膜结构演化及其对光致发光光谱的影响.
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光致发光
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文献信息
篇名
高浓度Er/Yb共掺ZnO薄膜的结构及室温光致发光特性
来源期刊
光学学报
学科
物理学
关键词
光通信
Er/Yb共掺
光致发光
ZnO薄膜
微观结构
年,卷(期)
2006,(2)
所属期刊栏目
薄膜
研究方向
页码范围
311-316
页数
6页
分类号
O484
字数
5240字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-2239.2006.02.031
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
张庆瑜
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
92
897
16.0
25.0
2
刘志文
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
12
264
8.0
12.0
3
谭娜
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
4
22
3.0
4.0
4
苗壮
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
3
20
3.0
3.0
5
段淑卿
大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
3
18
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ZnO薄膜
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研究来源
研究分支
研究去脉
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光学学报
主办单位:
中国光学学会
中国科学院上海光学精密机械研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
0253-2239
CN:
31-1252/O4
开本:
大16开
出版地:
上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
邮发代号:
4-293
创刊时间:
1981
语种:
chi
出版文献量(篇)
11761
总下载数(次)
35
总被引数(次)
130170
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