离子束辅助技术获得高激光损伤阈值的增透膜

• 作者: 晋云霞 王聪娟 王英剑 范正修 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 离子辅助沉积 弱吸收 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2006,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 683-686
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2560字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2006.05.023

摘要

采用合适的离子束辅助沉积(IBAD)参数在K9基底上镀制了高激光损伤阈值的中心波长1053 nm的增透膜,分别从光谱性能、吸收性能、抗激光损伤阈值(LIDT)以及退火后的影响等方面与未进行离子束辅助沉积的薄膜进行对比分析.实验结果发现,采用离子辅助制备的薄膜放置80 d后具有更好的光谱稳定性,与未进行离子束辅助镀制的薄膜相比,平均吸收下降了57%,吸收值偏高的奇异点明显减少;损伤阈值提高了60%,用Leica偏振光学显微镜观察50%损伤几率的能量下破斑形貌,发现经过离子束辅助制备的样品破斑形状整齐且缺陷点少;未进行离子束辅助制备的样品退火后吸收降低,阈值提高,但奇异点没有减少,辅助样品变化不大.由此可知,离子辅助有助于制备高性能基频增透膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
3	王英剑	中国科学院上海光学精密机械研究所	21	254	11.0	15.0
4	晋云霞	中国科学院上海光学精密机械研究所	15	122	7.0	11.0
5	王聪娟	中国科学院上海光学精密机械研究所	4	45	3.0	4.0