双次曝光积分效应实现杂质浓度分布均匀化

• 作者: 叶玉堂 吴云峰 焦世龙 王昱琳 范超 赵爱英
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 激光诱导扩散 双次曝光积分效应 扩散杂质浓度分布 均匀化整形
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 高功率激光与光学
• 页码范围: 6-10
• 页数: 5页
• 分类号: TN21
• 字数: 2416字
• 语种: 中文

摘要

激光诱导扩散中,当入射激光光强为高斯分布甚至均匀分布时,微小扩散区的温度分布不均匀.由于扩散系数是温度的函数,必将导致扩散后杂质浓度分布的均匀性较差,无法制作出高性能的p-n结.提出采用多次激光诱导扩散的积分效应来实现杂质浓度分布的均匀化整形.对于InP衬底的CO2激光诱导Zn扩散,利用温度闭环测控系统测得的基片表面热斑温度场分布,分析计算了两次激光诱导扩散重叠区域的浓度分布积分效应.在此基础上模拟计算出,用双次曝光积分效应做杂质浓度分布的均匀化整形时,基片上两次激光照射位置的最佳间隔为20 μm.这为改进激光诱导扩散工艺,用多次曝光实现面均匀的杂质浓度分布奠定了理论基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴云峰	电子科技大学光电信息学院	106	653	13.0	18.0
2	叶玉堂	电子科技大学光电信息学院	170	1471	17.0	30.0
3	焦世龙	电子科技大学光电信息学院	16	90	6.0	8.0
4	范超	电子科技大学光电信息学院	21	102	7.0	8.0
5	王昱琳	电子科技大学光电信息学院	25	115	6.0	9.0
6	赵爱英	电子科技大学光电信息学院	4	11	2.0	3.0