特定取向纳米晶粒铜薄膜的研究

• 作者: 何智兵 吴卫东 程丙勋 许华
• 来源期刊: 中国工程物理研究院科技年报
• 学科: 物理学
• 关键词: 择优取向 纳米晶粒 铜薄膜 表面结构 直流磁控溅射 柱状结构 机械性能 化学性质
• 年，卷（期）: zggcwlyjykjnb_2006,（1）
• 页码范围: 498
• 页数: 1页
• 分类号: O484.1

摘要

薄膜中如果晶粒的取向高度集中于某一方向则称为高择优取向。具有高择优取向的薄膜与无序取向的薄膜相比呈现不同的物理、化学性质和机械性能，如耐蚀性、催化性、内磁性等。近年来，研究者们通过改变靶材的表面结构使得其产生的软X射线与中等硬X射线的转换效率有显著的提高，如光栅结构，柱状丝绒结构，多孔与纳米柱状结构。课题组基于强辐射源靶对特殊微结构靶的需求，采用直流磁控溅射方法开展了特定取向Cu薄膜的制备与结构研究工作，以期这种具有择优取向的微结构靶在与强激光作用过程中获得更为理想的特性。