单层SiO2物理膜与化学膜激光损伤机理的对比研究

• 作者: 任寰 刘春明 吕海兵 张艳珍 祖小涛 蒋晓东 郑万国 陈习权
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 强激光辐照损伤 损伤形貌 热冲击 热吸收
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 唯象论的经典领域
• 页码范围: 1201-1206
• 页数: 6页
• 分类号: O371
• 字数: 3094字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2006.03.034

摘要

采用离子束溅射沉积技术和溶胶-凝胶技术在K9基片上镀制了厚度相近的SiO2单层介质膜,用表面热透镜技术对两类膜层分别进行了热吸收及实时动态热畸变实验测试,结合散射光阈值测试及实验前后膜层的显微观测,对相同基底、相同膜层材料而采用不同方法镀制的光学膜层,发现化学膜的强激光损伤阈值远高于相应物理膜;从热力学响应及膜层特性差异的角度揭示了化学膜层的强激光损伤阈值远高于相应物理膜层的微观机理,即物理膜具有高吸收下的致密膜层快传导的基底热冲击效应,而化学膜则有低吸收下的疏松空隙填充慢传导的延缓效应,大量的实验数据及现象都证实了这一结论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	祖小涛	电子科技大学应用物理系	111	627	12.0	17.0
2	蒋晓东		5	33	2.0	5.0
3	刘春明	电子科技大学应用物理系	11	61	4.0	7.0
4	陈习权	电子科技大学应用物理系	5	68	4.0	5.0
6	郑万国		4	34	2.0	4.0
9	吕海兵		2	29	2.0	2.0
10	任寰		2	27	1.0	2.0
11	张艳珍		1	26	1.0	1.0