化学镀Ni-P合金镀层孔隙率的影响因素

• 作者: 卢旭东 邵忠财
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 钕铁硼 化学镀 孔隙率 耐蚀性 Ni-P合金
• 年，卷（期）: 2007,（6）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 1-3,19
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.2
• 字数: 2523字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2007.06.001

摘要

钕铁硼化学镀Ni-P合金层的孔隙率与镀层的耐蚀性有很大的关系.以铁氰化钾为指示剂采用贴滤纸法测定钕铁硼化学镀Ni-P合金层的孔隙率,研究了镀液pH、温度、主盐、还原剂及络合剂浓度对化学镀Ni-P合金层孔隙率的影响,并确定最佳的镀液参数,通过扫描电镜验证实验结果.结果表明:孔隙率随着镀液组成、pH及温度的增加而先减小后增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵忠财	沈阳理工大学环境与化学工程学院	143	1094	18.0	26.0
2	卢旭东	沈阳理工大学环境与化学工程学院	47	238	8.0	12.0