Cr/CrN/CrNC/CrC/Cr-DLC梯度膜层的研究

• 作者: 代明江 余志明 候惠君 李洪武 林松盛 牛仕超
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: Cr-DLC 中频磁控溅射 离子源 附着力
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 34-38
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.444|TB43
• 字数: 1669字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1007-9289.2007.03.008

摘要

采用中频磁控溅射结合离子源技术沉积Cr/CrN/CrNC/CrC/Cr-DLC膜层.利用扫描电镜(SEM)、电子能谱(EDS)、Raman光谱和俄歇深层剥层分别对膜层微观形貌、成分组成、键结构及梯度成分深层分布进行分析;采用努氏显微硬度计、摩擦磨损试验机、划痕仪及洛氏硬度计测评膜层机械性能.结果表明:采用中频磁控溅射可沉积出大面积Cr/CrN/CrNC/CrC/Cr-DLC梯度膜层;Cr溅射功率对C键结构影响不大,但表层DLC中Cr的含量和膜层厚度随中频功率增大而增大;随DLC中掺Cr量增多,膜层硬度及摩擦因数略有上升;采用梯度过渡层及掺入金属Cr提高了膜层附着力,但过高的中频功率使沉积离子能量偏高,膜层压应力增加反而降低了膜层附着性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余志明	中南大学材料科学与工程学院	80	689	15.0	21.0
2	林松盛	广州有色金属研究院材料表面工程研究所	45	332	11.0	14.0
3	代明江	广州有色金属研究院材料表面工程研究所	52	458	13.0	18.0
4	李洪武	广州有色金属研究院材料表面工程研究所	11	130	8.0	11.0
5	牛仕超	中南大学材料科学与工程学院	5	69	4.0	5.0
9	候惠君	广州有色金属研究院材料表面工程研究所	4	48	3.0	4.0