衍射光学元件制作中的基片涂胶方法

• 作者: 付绍军 刘颖 徐向东 洪义麟 邱克强
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 衍射光学元件 提拉涂胶 旋转涂胶
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 19-23
• 页数: 5页
• 分类号: TN305
• 字数: 4075字
• 语种: 中文

摘要

在基片上涂布一层厚度均匀的光刻胶层,是衍射光学元件制作中的一个重要步骤.介绍了目前用于衍射光学元件制作的两种主要涂胶方法--提拉法和旋转法,分析了这两种方法的特点和影响胶层厚度的主要因素,尤其是对其均匀性的影响,并提出了获得均匀胶厚的途径.对于提拉涂胶,选择粘度较高的光刻胶溶液与合适的提拉速度将有助于减小Marangoni流动和Van der Waals力对膜厚均匀性的影响;对于旋转涂胶,可以通过密封基片所在空间,或者通过气流控制器使基片上方空气流动处于层流状态来获得均匀一致的溶剂挥发速率,从而提高胶层的均匀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐向东	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	74	701	15.0	21.0
2	洪义麟	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	56	478	13.0	19.0
3	付绍军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	69	435	12.0	15.0
4	刘颖	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	158	3777	30.0	58.0
5	邱克强	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	25	135	6.0	10.0