Ar离子轰击高定向石墨表面结构变化的X射线光电子能谱分析

• 作者: 刘黎明 杨培志 黄宗坦
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 工学
• 关键词: 表面分析 Ar离子轰击 高定向裂解石墨 X射线光电子能谱
• 年，卷（期）: 2007,（4）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 379-382
• 页数: 4页
• 分类号: TQ165
• 字数: 2677字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-8827.2007.04.017

摘要

用X射线光电子能谱(XPS)研究了3.0 keV Ar离子轰击高定向裂解石墨(HOPG)引起的表面结构的变化.通过对C1s、C KLL及C2s谱峰形状的定性和定量分析,表明Ar离子轰击将破坏共价π键并导致表面局域sp2杂化C键向sp3杂化C键转化.sp3/sp2之比依赖于离子轰击时间.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄宗坦		10	57	3.0	7.0
2	杨培志		21	189	8.0	13.0
3	刘黎明		24	160	7.0	12.0