紫外压印模版的制备

• 作者: 司卫华 董晓文 顾文琪
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外线 压印 模版制作 反应离子刻蚀
• 年，卷（期）: 2007,（2）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 5-8
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 2215字
• 语种: 中文

摘要

概述了紫外压印的原理及其优点,并通过对紫外压印模版特殊性的分析,提出了两种紫外压印模版的制作.用反应离子刻蚀法制作了玻璃模版,用浇灌法制作了聚二甲基硅氧烷(PDMS)模版,最后给出了实验过程和结果.实验表明,用反应离子刻蚀法可以制作出具有100 nm特征尺寸、图形的深度为50 nm的玻璃模版,而且通过控制刻蚀时间可以得到需要的图形深度.用浇灌法可以制作出具有100 nm特征尺寸、图形深度为145 nm的聚合物模版.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	顾文琪	中国科学院电工研究所	53	189	8.0	11.0
2	董晓文	中国科学院电工研究所	10	46	4.0	6.0
6	司卫华	中国科学院电工研究所	9	46	4.0	6.0