用于分布反馈光栅的纳米压印模板制作

• 作者: 刘文 周宁 徐智谋 王定理
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米压印 压印模板 分布反馈光栅
• 年，卷（期）: 2011,（11）
• 所属期刊栏目: 微纳技术与精密机械
• 页码范围: 2731-2735
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2519字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20111911.2731

摘要

高质量、低成本的压印模板的获得是采用纳米压印技术制作分布反馈光栅的难点,本文采用双层金属掩模及liftoff金属剥离方法制作了适用于紫外压印技术的石英基压印模板.首先,采用电子柬光刻技术在镀钛的石英基片表面直写出DFB光栅的光刻胶图形,接着,在其表面溅射一层金属镍并进行金属剥离得到与光刻胶相对的图形,最后采用电感耦合等离子体(ICP)干法刻蚀技术将光栅图形转移到石英基片上,并对模板的表面进行了防粘连处理.所制作的DFB光栅压印模板周期为200 nm,光栅中间具有λ/4相移结构,适用于1 310 nm波长的相移型DFB半导体激光器光栅的制作.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘文		12	79	6.0	8.0
7	王定理		7	40	4.0	6.0
9	徐智谋	华中科技大学武汉光电国家实验室	21	120	8.0	9.0
10	周宁		3	12	2.0	3.0