光刻胶刻蚀过程模拟的三维动态CA模型

• 作者: 卢伟 周再发 李伟华 黄庆安
• 来源期刊: 中国科学E辑
• 学科: 化学
• 关键词: 元胞自动机 工艺仿真 光刻 模型
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 页码范围: 32-42
• 页数: 11页
• 分类号: O6
• 字数: 6286字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1006-9275.2007.01.006

摘要

建立了光刻胶刻蚀过程模拟的三维动态CA模型,通过制定规则来确定模拟过程中不断更新的表面元胞,使得模拟只需计算表面元胞的刻蚀过程;同时模型避免了在模拟程序中大量运用if-else结构,使运算速度大大提高.因此模型具有稳定性好、运算速度快的优点.首先利用一些刻蚀速率测试函数对模型进行测试,验证了模型的效果.随后结合曝光过程和后烘过程模拟,采用一个精度较高的光刻胶刻蚀速率计算公式模拟光刻胶刻蚀过程;并将模拟结果与已有的实验结果进行了对比,比较一致.这些结果表明建立的光刻胶刻蚀过程模拟的三维动态CA 模型具有较高的精度,能有效地模拟光刻胶刻蚀过程,并可与曝光、后烘等光刻工艺模拟的其他步骤集成在一起.