数字掩模制作控制系统误差特性研究

• 作者: 陈劲松
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 数字微镜 衍射光学元件 掩模 误差分析
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 607-610
• 页数: 4页
• 分类号: TN15|TN305.7
• 字数: 3067字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2007.05.021

摘要

数字化掩模制作系统的核心控制部件是数字微镜.文中系统分析了数字微镜控制系统对数字化掩模制作系统精度的影响.指出误差来源主要为数字微镜帧刷新率、像素黑栅效应、像素量化和调制非线性等因素,并分别提出了相应的误差修正或补偿方法.提高系统的精缩倍数、像素分辨率以及占空比,可以降低这些误差来源的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈劲松	安徽财经大学信息工程学院	29	80	6.0	8.0