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Nikon 39nm图形技术取得进展 欲占193nm浸没式光刻半壁江山
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节点文献
浸没式光刻
NIKON
39nm
图形技术
光刻胶
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起偏镜
焦深
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偶极
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研究起点
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期刊影响力
半导体信息
主办单位：
中国半导体行业协会分立器件分会
中国电子科技集团公司第五十五研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
CN：
开本：
16开
出版地：
南京市1601信箱43分箱（南京市中山东
邮发代号：
创刊时间：
1990
语种：
chi
出版文献量（篇）
5953
总下载数（次）
11
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