单片式128×1氧化钒微测辐射热计非致冷焦平面的研制

• 作者: 刘强 唐成伟 施永明 梁平治 陈永平
• 来源期刊: 红外与毫米波学报
• 学科: 工学
• 关键词: 非致冷焦平面 氧化钒 低应力氮化硅 微桥
• 年，卷（期）: 2007,（5）
• 页码范围: 336-339,348
• 页数: 5页
• 分类号: TN215|O484
• 字数: 3701字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9014.2007.05.005

摘要

采用氧化钒薄膜、低应力介质膜和CMOS读出电路技术,研制了单片式128×1非致冷焦平面.氧化钒薄膜的制备采用了一种新的方法,焦平面的信号读出采用了CTIA积分方式.应用一种双频PECVD技术制备了低应力氮化硅薄膜,有效改善了微桥的平整度.通过氮化硅和氧化钒薄膜自身的红外吸收,焦平面在8～14μm波段的平均响应率达到8.2 ×104V/W,平均D·达到2.3×108 cmHz1/2/w.焦平面的均匀性需要进一步改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁平治	中国科学院上海技术物理研究所	28	252	9.0	15.0
2	陈永平	中国科学院上海技术物理研究所	25	98	6.0	8.0
3	刘强	中国科学院上海技术物理研究所	235	4502	28.0	60.0
4	施永明	中国科学院上海技术物理研究所	2	10	2.0	2.0
5	唐成伟	中国科学院上海技术物理研究所	2	3	1.0	1.0