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FSI国际推出采用其MAGELLAN~浸泡式清洗系统的新型氮化硅选择性蚀刻工艺
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摘要：
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氮化硅陶瓷的ELID高速磨削工艺试验研究
高速磨削
氮化硅陶瓷
ELID磨削
非ELID磨削
双光束激发改进纳米氮化硅合成工艺
LICVD
纳米Si3N4
双光束激发
氮化硅反应烧结的研究进展
氮化硅陶瓷
反应烧结
高温性能
陶瓷韧性
立方氮化硅及其冲击波合成
立方氮化硅
冲击波压缩
合成
内容分析
关键词云
关键词热度
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研究主题发展历程
节点文献
氮化硅
清洗系统
FSI
MAGELLAN
浸泡式
清洗技术
圆片
微电子制造
表面处理设备
汽相
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体信息
主办单位：
中国半导体行业协会分立器件分会
中国电子科技集团公司第五十五研究所
出版周期：
双月刊
ISSN：
CN：
开本：
16开
出版地：
南京市1601信箱43分箱（南京市中山东
邮发代号：
创刊时间：
1990
语种：
chi
出版文献量（篇）
5953
总下载数（次）
11
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